等离子表面处理系统

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旋转型 PL-5050-2

PL-5050-2等离子处理系统能高效处理导电、非导电及半导体材料表面,显著提升材料在粘接、印刷、密封及胶合前的表面附着性能。该系统通过等离子清洁、蚀刻、表面活化等工艺,可大幅改善材料表面粘附力。本机型标配双旋转喷头系统,可同步处理两个不同作业区域,并能根据不同表面特性调节最佳处理宽度。设备提供5种(*2组)可选喷头配置。核心部件采用德国技术等离子发生器,主要元器件均为进口组装。

产品优势:

1、快速安装:仅需接通电源和气源即可投入使用,无需调节功率或气压参数

2、智能控制系统:集成手动/自动双模式操作

3、放电监控功能:当功率低于预设阈值时自动触发报警机制

4、产线兼容性:可适配各类生产线集成需求

5、高效处理:增强型功率输出可缩短不同材质的处理时长

6、经济实用:有效降低不良品率与材料损耗,维护成本低廉


配置说明

等离子系统组件: 外部气源、主机、等离子发生器及旋转喷头。

标配喷头: 双旋转喷头

整机组装: 是

喷枪数量: 双枪头

适用喷头规格: R16、R20、R30、R50、R70(支持非标定制)

同步系统: 切换系统+编码器同步

安装方式: 可选万向微调喷枪支架或滑轨系统

报警监测: 等离子电源异常、气压不稳、旋转电机故障及断电报警


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