真空等离子系统

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VL-80-A

1. 工艺处理效率高

1000W等离子功率,产生强劲且稳定的等离子体,快速完成表面活化、清洗与镀膜处理,缩短加工周期,同时保障处理效果稳定一致。

2. 精准气体调控

标配2台质量流量控制器(氩气、氧气),可定制扩展至3路,实现精确气体配比,针对不同物料需求完成工艺优化。

3. 可靠智能控制系统

搭载西门子PLC系统,设备运行稳定,参数控制精准,支持工艺配方存储,可便捷对接自动化生产线。

4. 腔体小巧,适用场景广泛

80升真空腔体兼顾装载容量与占地面积,适配科研研发、小批量试产以及中等规模工业化应用。

概述

VL-80-A 80升真空等离子处理系统结构紧凑、效能优异,适用于高精度表面活化、清洗及功能镀膜工艺。设备搭载大功率1000瓦等离子发生器,等离子放电稳定,可对各类材料实现均匀处理。系统采用性能可靠的西门子PLC控制,操作直观、工艺稳定,参数管理便捷。标准配置配备两路质量流量控制器(氩气、氧气),支持定制扩展至三路质量流量控制器,提升工艺适配能力,满足复杂混合气体工艺使用需求。

技术参数

技术参数
等离子主机外形尺寸(长×宽×高)930×765×1750mm
腔体尺寸(长×宽×高,可定制)515×400×410mm
等离子电源等离子供电频率13.56MHz / 40kHz(可选)
额定功率1000W
控制系统控制方案(PLC)西门子 – SIMATIC HMI Smart 700 IE V5
显示屏7英寸触摸屏
真空系统腔体材质铝合金
腔体漏率>15Pa/s
极限真空度<5Pa/s
工艺层(可定制)6层(金属丝网托盘)
破真空时间≤10s
抽真空时间≤60s
真空泵抽速60m³/h
泵类型油封泵 / 干泵(可选)
气路系统工艺气体流量范围0–300SCCM
工艺气路配置标配氩气/氧气两路,配备2台质量流量控制器;可选氮气/氢气/氦气三路,配备3台质量流量控制器
现场配套要求设备供电380V 50Hz,五线制
设备气源(压缩空气)≥0.4MPa
设备总功率4.5kW
工作环境温度0℃ – 50℃


应用领域

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